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双向可控硅整流
本发明提供一种双向可控硅整流器包括:第一导电型的衬底、第二导电型的阱区、浅沟槽隔离结构、第一导电型的六个重掺杂区、第二导电型的六个重掺杂区以及第一导电型的四个静电放电(ESD)注入层。在所述阱区中有并排的四个有源区,且中...
刘俊杰杜飞波何青松
可控硅整流
本公开涉及半导体结构,更具体涉及可控硅整流器和制造方法。该结构包括:第一阱,其位于半导体衬底中;第二阱,其位于半导体衬底中;第三阱,其位于半导体衬底中并将第一阱与第二阱隔离开;以及第一扩散区,其位于半导体衬底的表面处并且...
曾杰S·P·卡拉卡尔
单向可控硅整流器件
本发明公开了一种单向可控硅整流(SCR)器件。SCR包括第一外层、第二外层、第一中间层和第二中间层。第一外层被耦合到第一中间层。第一中间层被耦合到第二中间层。第二中间层被耦合到第二外层。SCR还包括被...
周继峰张环何磊
一种可控硅整流励磁系统
本实用新型属于励磁控制技术领域,尤其为一种可控硅整流励磁系统,包括:机柜,所述机柜内安装有电路器组件,且电路器组件用于将电力稳定输出,所述电路器组件上安装有励磁组件,且励磁组件用于控制和调节电流,所述机柜的一侧固定有散热...
刘永江田野陈慈阳徐金刚唐复港李成绿郑淑容郑晶
触发器可控硅整流
本公开涉及触发器可控硅整流器。本公开涉及一种结构,其包括:位于绝缘体上半导体SOI衬底内的触发器元件;以及位于SOI衬底的掩埋绝缘体层下方的可控硅整流器SCR。触发器元件位于SCR的阳极与阴极之间。
A·纳特A·F·卢瓦索S·米特拉
高性能可控硅整流器器件
本公开涉及半导体结构,更具体地说,涉及高性能可控硅整流器(SCR)器件和制造方法。该结构包括:第一阱,其位于半导体衬底中;第二阱,其位于半导体衬底中且与第一阱相邻;多个浅沟槽隔离结构,其延伸到第一阱和第二阱中;以及深沟槽...
S·M·潘迪S·P·卡拉卡尔R·克里希纳萨米A·纳特
高性能可控硅整流器器件
本公开涉及半导体结构,更具体地涉及高性能可控硅整流器(SCR)器件和制造方法。该结构包括:第一阱,其位于半导体衬底中;第二阱,其位于半导体衬底中且与第一阱相邻;以及多孔半导体区,其在第一阱和第二阱中延伸。
S·M·潘迪S·P·卡拉卡尔R·克里希纳萨米陈学深
静电防护电路及其可控硅整流
本发明涉及一种用于静电防护的可控硅整流器,包括衬底、深埋层、第一类型阱区、第二类型阱区、第一类型掺杂区和第二类型掺杂区。第一类型阱区包括互相间隔的第一子阱区和第二子阱区。第二类型阱区介于第一子阱区和第二子阱区之间以将二者...
朱瑞陈晓峰李建峰
一种防反接的可控硅整流线路
本发明公开了一种防反接的可控硅整流线路,包括防反整流单元和防反控制单元,本发明整流电路的两输出端(V1,V2)正确连接蓄电池,二极管D2导通,稳压二极管D3为可控硅Q2控制极提供一稳定的高电平,可控硅Q2导通,整流电路的...
张雄峰吴锦清刘琪希
具有场板的可控硅整流
本公开涉及半导体结构,更具体地涉及具有场板结构的可控硅整流器和制造方法。该结构包括:位于半导体衬底中的多个第一类型的阱;位于半导体衬底中的第二类型的阱,第二类型的阱围绕多个第一类型的阱;围绕多个第一类型的阱的隔离结构,该...
曾杰

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研究主题:导电类型 功率半导体器件 半导体功率器件 比导通电阻 击穿电压
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研究主题:半导体功率器件 闩锁 集成电路 ESD保护 ESD
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研究主题:功率半导体器件 半导体功率器件 电能传输系统 无线 导电类型