搜索到8098篇“ 化学机械抛光“的相关文章
化学机械抛光方法和装置
本申请实施例提供了一种用于晶圆加工的化学机械抛光方法和装置。化学机械抛光方法包括:获取化学机械抛光装置的抛光头各区域的历史抛光压力;根据获取的所述历史抛光压力确定各所述区域的预测去除率;至少一个区域的预测去除率是根据该区...
路新春赵德文邓雯心靳富
一种化学机械抛光液及应用
本发明提供了一种化学机械抛光液及应用,包括研磨颗粒、抛光促进剂、氧化剂、表面活性剂、pH调节剂和水;所述抛光促进剂包括碱金属的无机酸盐和碱金属的有机酸盐;所述碱金属的无机酸盐包括碱金属的碳酸盐、碱金属的碳酸氢盐、碱金属的...
姚家辉苏品全刘江华
化学机械抛光控制方法及装置
本发明实施例涉及金属抛光技术领域,公开了一种电化学机械抛光控制方法,包括:发送喷淋信号至抛光喷淋装置处以使得抛光喷淋装置将抛光液喷射或者浸润在待抛光工件表面;发送驱动信号至抛光轮处以驱动抛光轮对待抛光工件进行机械抛光;控...
汪以祥廖磊华郭称发
包含分子筛颗粒的化学机械抛光
本发明公开了一种包含分子筛颗粒的化学机械抛光液,其通过以下步骤制备得到:S1、将分子筛颗粒与去离子水混合,得到液A;S2、将氧化剂溶于去离子水,得到液B;S3、将液A与液B混合,再加入助剂,搅拌均匀,得到抛光液。本发明利...
赵铁均张延风
化学机械抛光中的平台形状的控制
一种化学机械抛光装置,包括:用于支撑抛光垫的平台;致动器;承载头,承载头用于将基板表面固定抵靠抛光垫;电机,电机用于在平台与承载头之间产生相对运动,从而抛光基板上的覆盖层。平台具有中心部分和环形挠曲件,中心部分具有上表面...
S·M·苏尼卡J·古鲁萨米吴政勋
化学机械抛光的处理方法及装置、设备、存储介质
本申请实施例公开了一种化学机械抛光的处理方法及装置、设备、存储介质。本申请的技术方案中,在化学机械抛光过程中,首先获取晶圆的抛光层的目标反射相干光谱曲线,然后根据目标反射相干光谱曲线,得到目标相干极值点以及目标相干极值点...
请求不公布姓名
陶瓷覆铜板的化学机械抛光组合
本实用新型涉及陶瓷覆铜板抛光工具技术领域,具体地说,涉及陶瓷覆铜板的化学机械抛光组合,包括底板,底板上固定安装有支撑架,支撑架上设置有抛光组件,抛光组件包括第二气缸,第二气缸的伸缩轴上设置有顶板,顶板的底面中心位置处固定...
寇珑璠寇世尧马向宁
化学机械抛光设备和方法及制造显示装置的方法
本公开涉及一种化学机械抛光设备、一种采用化学机械抛光设备的制造显示装置的方法和化学机械抛光方法,化学机械抛光设备包括:输送带,传送基底;抛光头,设置在输送带上方;以及主体部件,主体部件移动抛光头并且向抛光头供应浆料。抛光...
南重建姜胜培梁熙星姜奉求裵俊和曺雨辰秋秉权
用于硅基材质的化学机械抛光组合物及方法
一种用于硅基材质的化学机械抛光组合物及化学机械抛光方法。该组合物包含磨料、第一聚合物和第二聚合物,其中所述磨料部分或全部为胶体二氧化硅磨粒。所述抛光组合物可以改善含硅基材的抛光效果,抛光后获得的产品具有较少的雾度,低的光...
维尔穆鲁根·克里希纳萨米叶日博纳·纳根德拉·普拉萨德田露贾仁合
用于晶圆加工的承载头及化学机械抛光设备
本申请涉及化学机械抛光用保持环、用于晶圆加工的承载头及化学机械抛光设备。保持环具有环状基体,环状基体具有顶面和与顶面相背的底面,顶面适于安装在承载头上,并且,在底面上分布有多个部分地自保持环凸出的底座,多个底座对应保持多...
孟松林程子政张洪蛟赵德文

相关作者

刘玉岭
作品数:481被引量:760H指数:13
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
路新春
作品数:367被引量:360H指数:11
供职机构:清华大学
研究主题:化学机械抛光 晶圆 抛光液 抛光垫 抛光
宋志棠
作品数:1,076被引量:361H指数:9
供职机构:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
研究主题:相变存储器 相变 相变材料 存储器 电阻
雒建斌
作品数:647被引量:1,179H指数:19
供职机构:清华大学
研究主题:化学机械抛光 润滑 薄膜润滑 抛光液 纳米级
潘国顺
作品数:168被引量:277H指数:11
供职机构:清华大学
研究主题:抛光 化学机械抛光 抛光液 去除速率 磨粒