2025年8月26日
星期二
|
欢迎来到涪陵区图书馆•公共文化服务平台
登录
|
注册
|
进入后台
[
APP下载]
[
APP下载]
扫一扫,既下载
全民阅读
职业技能
专家智库
搜索到
8098
篇“
化学机械抛光
“的相关文章
资源类型:
全部数字资源类型
期刊文章
政策法规
学位论文
专利
会议论文
标准
专著
科技成果
产品样本
科技报告
全部数字资源类型
全部数字资源类型
期刊文章
政策法规
学位论文
专利
会议论文
标准
专著
科技成果
产品样本
科技报告
排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效性降序
时效性升序
相关度排序
相关度排序
被引量排序
时效性降序
时效性升序
化学
机械抛光
方法和装置
本申请实施例提供了一种用于晶圆加工的
化学
机械抛光
方法和装置。
化学
机械抛光
方法包括:获取
化学
机械抛光
装置的
抛光
头各区域的历史
抛光
压力;根据获取的所述历史
抛光
压力确定各所述区域的预测去除率;至少一个区域的预测去除率是根据该区...
路新春
赵德文
邓雯心
靳富
一种
化学
机械抛光
液及应用
本发明提供了一种
化学
机械抛光
液及应用,包括研磨颗粒、
抛光
促进剂、氧化剂、表面活性剂、pH调节剂和水;所述
抛光
促进剂包括碱金属的无机酸盐和碱金属的有机酸盐;所述碱金属的无机酸盐包括碱金属的碳酸盐、碱金属的碳酸氢盐、碱金属的...
姚家辉
苏品全
刘江华
电
化学
机械抛光
控制方法及装置
本发明实施例涉及金属
抛光
技术领域,公开了一种电
化学
机械抛光
控制方法,包括:发送喷淋信号至
抛光
喷淋装置处以使得
抛光
喷淋装置将
抛光
液喷射或者浸润在待
抛光
工件表面;发送驱动信号至
抛光
轮处以驱动
抛光
轮对待
抛光
工件进行
机械抛光
;控...
汪以祥
廖磊华
郭称发
包含分子筛颗粒的
化学
机械抛光
液
本发明公开了一种包含分子筛颗粒的
化学
机械抛光
液,其通过以下步骤制备得到:S1、将分子筛颗粒与去离子水混合,得到液A;S2、将氧化剂溶于去离子水,得到液B;S3、将液A与液B混合,再加入助剂,搅拌均匀,得到
抛光
液。本发明利...
赵铁均
张延风
化学
机械抛光
中的平台形状的控制
一种
化学
机械抛光
装置,包括:用于支撑
抛光
垫的平台;致动器;承载头,承载头用于将基板表面固定抵靠
抛光
垫;电机,电机用于在平台与承载头之间产生相对运动,从而
抛光
基板上的覆盖层。平台具有中心部分和环形挠曲件,中心部分具有上表面...
S·M·苏尼卡
J·古鲁萨米
吴政勋
化学
机械抛光
的处理方法及装置、设备、存储介质
本申请实施例公开了一种
化学
机械抛光
的处理方法及装置、设备、存储介质。本申请的技术方案中,在
化学
机械抛光
过程中,首先获取晶圆的
抛光
层的目标反射相干光谱曲线,然后根据目标反射相干光谱曲线,得到目标相干极值点以及目标相干极值点...
请求不公布姓名
陶瓷覆铜板的
化学
机械抛光
组合
本实用新型涉及陶瓷覆铜板
抛光
工具技术领域,具体地说,涉及陶瓷覆铜板的
化学
机械抛光
组合,包括底板,底板上固定安装有支撑架,支撑架上设置有
抛光
组件,
抛光
组件包括第二气缸,第二气缸的伸缩轴上设置有顶板,顶板的底面中心位置处固定...
寇珑璠
寇世尧
马向宁
化学
机械抛光
设备和方法及制造显示装置的方法
本公开涉及一种
化学
机械抛光
设备、一种采用
化学
机械抛光
设备的制造显示装置的方法和
化学
机械抛光
方法,
化学
机械抛光
设备包括:输送带,传送基底;
抛光
头,设置在输送带上方;以及主体部件,主体部件移动
抛光
头并且向
抛光
头供应浆料。
抛光
...
南重建
姜胜培
梁熙星
姜奉求
裵俊和
曺雨辰
秋秉权
用于硅基材质的
化学
机械抛光
组合物及方法
一种用于硅基材质的
化学
机械抛光
组合物及
化学
机械抛光
方法。该组合物包含磨料、第一聚合物和第二聚合物,其中所述磨料部分或全部为胶体二氧化硅磨粒。所述
抛光
组合物可以改善含硅基材的
抛光
效果,
抛光
后获得的产品具有较少的雾度,低的光...
维尔穆鲁根·克里希纳萨米
叶日博纳·纳根德拉·普拉萨德
田露
贾仁合
用于晶圆加工的承载头及
化学
机械抛光
设备
本申请涉及
化学
机械抛光
用保持环、用于晶圆加工的承载头及
化学
机械抛光
设备。保持环具有环状基体,环状基体具有顶面和与顶面相背的底面,顶面适于安装在承载头上,并且,在底面上分布有多个部分地自保持环凸出的底座,多个底座对应保持多...
孟松林
程子政
张洪蛟
赵德文
加载更多 ∨
相关作者
刘玉岭
作品数:481
被引量:760
H指数:13
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
路新春
作品数:367
被引量:360
H指数:11
供职机构:清华大学
研究主题:化学机械抛光 晶圆 抛光液 抛光垫 抛光
宋志棠
作品数:1,076
被引量:361
H指数:9
供职机构:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
研究主题:相变存储器 相变 相变材料 存储器 电阻
雒建斌
作品数:647
被引量:1,179
H指数:19
供职机构:清华大学
研究主题:化学机械抛光 润滑 薄膜润滑 抛光液 纳米级
潘国顺
作品数:168
被引量:277
H指数:11
供职机构:清华大学
研究主题:抛光 化学机械抛光 抛光液 去除速率 磨粒
用户登录
用户反馈
标题:
*标题长度不超过50
邮箱:
*
反馈意见:
反馈意见字数长度不超过255
验证码:
看不清楚?点击换一张