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具有与栅极层形成具有不同能量势垒高度的结的栅极电接触件的半导体设备
本申请公开具有与栅极层形成具有不同能量势垒高度的结的栅极电接触件的半导体设备,并且整体涉及一种半导体设备,该半导体设备包括栅极电接触件,该栅极电接触件与栅极层形成具有不同能量势垒高度的结。在一个示例中,半导体设备包括半导...
U·拉达克里希南唐智凯J·斯特赖敦J·乔
基于势垒高度控制的双端紫外光电探测器及其制备方法
本发明属于光电子器件技术领域,具体为一种基于势垒高度调控的双端紫外光电探测器及制备方法。本发明探测器结构自下而上依次为:衬底,电极,功能层,介质层,透明电极层;基于于金属或半导体/绝缘体介质/透明电极结构,实现紫外光谱选...
黄海石建霖褚君浩
一维/二维半导体器件肖特基势垒高度的调整方法被引量:2
2024年
The Schottky contact which is a crucial interface between semiconductors and metals is becoming increasingly significant in nano-semiconductor devices. A Schottky barrier, also known as the energy barrier, controls the depletion width and carrier transport across the metal–semiconductor interface.Controlling or adjusting Schottky barrier height(SBH) has always been a vital issue in the successful operation of any semiconductor device. This review provides a comprehensive overview of the static and dynamic adjustment methods of SBH, with a particular focus on the recent advancements in nanosemiconductor devices. These methods encompass the work function of the metals, interface gap states,surface modification, image-lowering effect, external electric field, light illumination, and piezotronic effect. We also discuss strategies to overcome the Fermi-level pinning effect caused by interface gap states, including van der Waals contact and 1D edge metal contact. Finally, this review concludes with future perspectives in this field.
孟建平李正国李舟
势垒高度对SB-MOSFET特性的影响研究
2023年
在传统场效应晶体管的基础上,针对SB-MOSFET对金属功函数敏感的问题,设计了势垒高度对SB-MOSFET性能影响的实验并加以验证。实验中通过调整金属功函数、金属费米能级与半导体钉扎位置,实现势垒高度的改变。通过器件模拟和电学特性仿真,验证了势垒高度对器件转移特性的影响,并通过能带和电子浓度仿真对实验结论展开分析。实验表明,势垒高度增大,正向导通电流变小,反向泄漏电流不变,在此结论基础上进一步探讨SB-MOSFET避免离子注入等问题,有助于提高界面态质量,为MOSFET研究和大规模器件开发提供了新思路。
赵春荣刘溪
热电子晶体管及其制备方法、肖特基势垒高度提取方法
本发明涉及半导体器件技术领域,尤其涉及一种热电子晶体管及其制备方法、肖特基势垒高度提取方法,热电子晶体管包括发射极、基极及集电极,在发射极与基极之间设置有隧穿势垒层,在基极与集电极之间设置有无机半导体层。本发明的热电子晶...
开媛江潮
第ⅥA主族元素掺杂Mg-MoS_(2)异质结势垒高度调控被引量:2
2023年
在纳米尺寸的薄膜场效应晶体管中,源极、漏极(金属材料)与有源层(半导体材料)之间的肖特基势垒是制约器件发展的关键因素之一.本文采用密度泛函理论的第一性原理赝势平面波方法,通过第Ⅵ主族元素对二硫化钼(MoS_(2))的硫原子进行替位掺杂,电子结构分析表明,氧的替位掺杂可以显著降低MoS_(2)的带隙值.选择功函数值较低的金属Mg,构建氧掺杂Mg-MoS_(2)异质结,研究发现,界面位置的氧掺杂可以使该异质结由肖特基接触变为欧姆接触.分析结果表明,欧姆接触的形成原因主要来自3个方面:(1)氧的掺杂增大了MoS_(2)的电子亲合能;(2)未掺杂的Mg-MoS_(2)异质结禁带中存在金属诱导间隙态,使费米能级被钉扎在禁带中靠近导带底的位置,界面氧掺杂降低了金属诱导间隙态在费米能级附近的强度,使费米能级的钉扎效应减弱而进入导带;(3)界面氧掺杂时,界面电荷转移减少,电偶极矩对Mg-MoS_(2)异质结相对能级改变的影响减小.本文的研究结果为金属-半导体界面的肖特基势垒高度调控提供了一定的理论指导.
栾丽君白凯阳马喆凡俞鹏飞段理
关键词:肖特基势垒掺杂
金属-二维半导体结中准键诱导的能隙态:降低肖特基势垒高度的途径
二维材料凭借着其超薄、柔性可穿戴、电导性高、能够制备更加复杂的结构且容易控制模拟等优良特性,受到了广泛的关注与研究。然而,当二维半导体材料用于电子器件时,其与金属电极接触所发生的界面化学反应或者二维半导体的自身的缺陷都将...
周丽鑫
关键词:异质结
具有由具负肖特基势垒高度的电接触感生的源极和漏极的纳米线晶体管
一种纳米线晶体管包括与非掺杂沟道区电耦合的非掺杂源极和漏极区。与栅极导体电隔离的源极堆叠包括界面层(I层)和源极导体(源极接触),且同轴地完全包绕所述源极区,沿着所述源极区的至少一部分延伸。所述源极导体与所述源极区之间的...
保罗·A·克利夫顿安德烈亚斯·戈贝尔沃尔特·A·哈里森
具有由具负肖特基势垒高度的电接触感生的源极和漏极的纳米线晶体管
一种纳米线晶体管包括与非掺杂沟道区电耦合的非掺杂源极和漏极区。与栅极导体电隔离的源极堆叠包括界面层(I层)和源极导体(源极接触),且同轴地完全包绕所述源极区,沿着所述源极区的至少一部分延伸。所述源极导体与所述源极区之间的...
保罗·A·克利夫顿安德烈亚斯·戈贝尔沃尔特·A·哈里森
具有势垒高度不同的二极管装置的半导体装置及其制造方法
本发明实施例提供一种具有势垒高度不同的二极管装置的半导体装置及其制造方法。提供衬底。在所述衬底中形成第一导电类型的第一阱区。对所述第一阱区的第一部分执行第二导电类型的第一离子植入而阻止植入所述第一阱区的第二部分。通过加热...
罗文勋张聿骐徐英杰

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李盛涛
作品数:427被引量:1,425H指数:22
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作品数:34被引量:171H指数:8
供职机构:中国航空工业集团公司中国空空导弹研究院
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